高壓均質技術提高CMP拋光液分散穩定性
主營產品： 安拓思納米技術(蘇州)有限公司專注於納米製劑技術,生物工程技術,納米化工技術。供應的設備包括微射流,熱熔擠出器,高壓均質機,脂質體擠出器,細胞破碎機等。目前在國內外的用戶數量超過1000個。
成功案例

高壓均質技術提高CMP拋光液分散穩定性

目前化學機械拋光(CMP)是世界上公認的可以實現集成電路製造中全局平坦化的技術，其精度可以達到納米級別。但是想要得到如此高精度的表麵質量，除了工藝和設備參數的設定外，拋光液也是關(guan) 鍵因素之一。


CMP拋光液一般由去離子水、磨料以及 pH 調節劑、氧化劑、分散劑和表麵活性劑等化學助劑等組成，拋光液中磨料的作用是在晶圓和拋光墊的界麵之間進行機械研磨，以確保CMP過程中的高材料去除率。


拋光液的拋光性能，受其分散性和懸浮穩定性的影響，隨著拋光液放置時間的延長以及拋光過程中化學組分的變化，拋光液中的軟磨料或硬磨料都易發生凝膠現象，這會(hui) 導致拋光過程中在晶圓表麵留下劃痕，從(cong) 而影響最終的拋光效果。


因此，如何製備具有良好分散穩定性的拋光液是目前亟待解決(jue) 的問題。



高壓均質技術製備高分散性拋光液




高壓均質機通過高壓下的強烈剪切和撞擊作用，能夠將顆粒分散到納米級別，並保持其穩定的懸浮狀態，從(cong) 而改善拋光液的性能。

依托二十餘(yu) 年的技術積累，ATS的高壓均質機在設備性能和技術水平上均處於(yu) 國內(nei) 領先地位。設備通過高壓、高剪切力的作用，使CMP拋光液中的固體(ti) 顆粒得以細化並均勻分散於(yu) 液體(ti) 中。同時，ATS還不斷引入新材料、新工藝，提升設備的耐磨性、耐腐蝕性和穩定性，確保長期穩定運行。




  • 金屬雜質可控，無汙染風險
  • 耐腐蝕配件，提高使用年限
  • 有效分散團聚粒子，粒徑分布更窄
  • 設備規格齊全，支持規模化生產
  • 對比微射流均質機，容腔不易堵塞，性價比更高

案例分享

氧化鈰拋光液


二氧化矽拋光液


氧化鋁拋光液


通過上述結果，可以看出使用ATS高壓均質機不僅(jin) 可以提高CMP拋光漿料的性能和質量，還降低了生產(chan) 成本，提高了生產(chan) 效率，對於(yu) CMP工藝的優(you) 化和提升具有重要意義(yi) 。而且不難看出高壓均質機不僅(jin) 在CMP拋光漿料中有顯著優(you) 勢，還可以應用於(yu) 其他納米材料的分散和均質過程，具有廣泛的應用前景和市場潛力。