主營產品： 安拓思納米技術(蘇州)有限公司專注於納米製劑技術,生物工程技術,納米化工技術。供應的設備包括微射流,熱熔擠出器,高壓均質機,脂質體擠出器,細胞破碎機等。目前在國內外的用戶數量超過1000個。
成功案例

ATS射流分散機—氣相二氧化矽分散製備

引言：氣相二氧化矽是通過鹵矽烷在氫氧焰中高溫水解縮合而得到的一種超細粉體(ti) 材料。分散性能好，分散後能形成“近乎完美”的納米粒子三維網絡結構。那麽(me) ATS射流分散機和高壓均質機如何實現氣相二氧化矽的分散效果呢？氣相二氧化矽分散實驗操作、實驗結果請見正文內(nei) 容。

實驗對象

灰色氣相二氧化矽液體(ti) （在白色二氧化矽裏加入了其它成份），有一定的黏度。

實驗儀(yi) 器

ATS高壓均質機

ATS射流分散機

激光粒度儀(yi)

實驗背景

氣相二氧化矽是通過鹵矽烷在氫氧焰中高溫水解縮合而得到的一種超細粉體(ti) 材料。其粒徑很小，因此比表麵積大，達到100～400m2/g，表麵吸附力強，表麵能大；化學純度高，SiO2含量不小於(yu) 99.8％；分散性能好，分散後，可以形成“近乎完美”的納米粒子三維網絡結構，使得它具有優(you) 異的補強、增稠、觸變、防沉降、防流掛等性能。

實驗難點

1、氣相二氧化矽質地硬，極易磨閥座閥芯，ATS使用金剛石閥座閥芯，抗磨。

2、氣相二氧化矽有一定黏度，不易進料，ATS使用特殊進料模塊輔助進料，進料方便。

3、氣相二氧化矽分散目標高，D50要達到100-200nm，ATS使用射流+均質分散模塊，效果更快更好。

實驗目的

分散後得到穩定的分散體(ti) 係，且D50小於(yu) 200nm

實驗工藝

1、ATS高壓均質機，采用一級均質，控低溫處理；

2、ATS射流分散機，采用一級均質，控低溫處理；

實驗結果

1、現象

ATS射流分散機處理後不掛壁，流動性良好。高壓均質機均質後流動表現弱於(yu) 射流分散機。

                                        

        射流分散機處理後                                                                 高壓均質機處理後

2、粒徑測量

氣化二氧化矽初始粒徑 、均質機和分散機處理2次後的粒徑

氣化二氧化矽初始粒徑 、均質機和分散機處理6次後的粒徑


實驗小結

一般的商品氣相二氧化矽經機械力隻能破壞彼此結合的範德華力，分散後的粒徑在100-300nm之間。ATS射流分散機能得到穩定的分散體(ti) 係，效果更好，粒徑更小，更值得推薦。

應用領域

氣相二氧化矽廣泛用於(yu) 各行業(ye) ，作為(wei) 添加劑、催化劑載體(ti) ，應用於(yu) 石油化工，脫色劑，消光劑，橡膠補強劑，塑料充填劑，油墨增稠劑，金屬軟性磨光劑，絕緣絕熱填充劑，高級日用化妝品填料及噴塗材料、醫藥、環保等各種領域。並為(wei) 相關(guan) 工業(ye) 領域的發展提供了新材料基礎和技術保證。